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氟硅酸根离子在镀铬电解液中有什么作用?
答(da):氟硅酸(suan)根(gen)离(li)子(zi)(zi)在(zai)镀铬(ge)(ge)(ge)过程中(zhong)(zhong)起(qi)着与(yu)硫(liu)酸(suan)根(gen)离(li)子(zi)(zi)相类(lei)似的(de)(de)作用，除此之外，它还具(ju)有(you)某些方面的(de)(de)特点。例如铬(ge)(ge)(ge)层(ceng)容易钝化(hua)，在(zai)镀铬(ge)(ge)(ge)过程中(zhong)(zhong)因电(dian)流(liu)中(zhong)(zhong)断或(huo)进行二(er)次(ci)镀铬(ge)(ge)(ge)(不另加其它措施)时(shi)，所获得(de)的(de)(de)镀层(ceng)为乳白而无光(guang)泽。但是在(zai)有(you)氟硅酸(suan)根(gen)离(li)子(zi)(zi)存在(zai)下(xia)，它具(ju)有(you)使铬(ge)(ge)(ge)层(ceng)表面活化(hua)的(de)(de)作用，当电(dian)流(liu)中(zhong)(zhong)断或(huo)二(er)次(ci)镀铬(ge)(ge)(ge)时(shi)，仍能获得(de)光(guang)亮(liang)的(de)(de)铬(ge)(ge)(ge)层(ceng)。又(you)如小零件(jian)滚镀铬(ge)(ge)(ge)，如果在(zai)一(yi)般标准镀铬(ge)(ge)(ge)液(ye)内(nei)进行，就(jiu)难于获得(de)光(guang)亮(liang)的(de)(de)铬(ge)(ge)(ge)层(ceng)，滚镀铬(ge)(ge)(ge)液(ye)内(nei)通常(chang)含有(you)氟硅酸(suan)根(gen)就(jiu)是这(zhei)个(ge)道理。
一般采用氟硅酸(suan)或氟硅酸(suan)钠(na)来提供氟硅酸(suan)根(gen)离子。
氟硅酸(suan)根离子另一特(te)点(dian)是能在(zai)低温(18～25℃)低电流密度(2～2.5A/d㎡)下(xia)获(huo)得光(guang)(guang)亮(liang)(liang)的铬(ge)层。当温度达45℃时(shi)，可获(huo)得光(guang)(guang)亮(liang)(liang)铬(ge)层的电流效率(lv)为19～21%，而在(zai)标(biao)准镀铬(ge)液中则为13%。
含有氟硅酸根离子(zi)的电解液，随着温(wen)度上升，其工作(zuo)范围比含有硫(liu)酸根离子(zi)的电解液为宽。
氟硅(gui)酸(suan)根(gen)离(li)子(zi)的(de)(de)主要缺点是(shi)对工(gong)件、镀槽、阳极的(de)(de)腐蚀性大，槽液(ye)(ye)维(wei)护要求(qiu)高(gao)。当镀液(ye)(ye)含有3克/升以上(shang)(shang)的(de)(de)铁离(li)子(zi)时，就(jiu)会(hui)严重影(ying)响铬(ge)(ge)层的(de)(de)光泽与(yu)镀液(ye)(ye)的(de)(de)分散能(neng)力，降低工(gong)作范围及(ji)电(dian)流(liu)效率。因此(ci)若以氟硅(gui)酸(suan)根(gen)离(li)子(zi)完全代替(ti)硫(liu)酸(suan)根(gen)离(li)子(zi)的(de)(de)镀铬(ge)(ge)电(dian)解(jie)液(ye)(ye)，由于上(shang)(shang)述的(de)(de)缺陷，不能(neng)长期很好地生产(chan)。而采用氟硅(gui)酸(suan)根(gen)和硫(liu)酸(suan)根(gen)离(li)子(zi)配合的(de)(de)镀铬(ge)(ge)电(dian)解(jie)液(ye)(ye)，应用较(jiao)广。
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